器件制备主要步骤

FETMOS 截面图

单晶，多晶，非晶

单晶：短程有序，长程有序；
多晶：短程有序，长程无序；
非晶：短程无序，长程无序；

单晶硅的介绍

外貌：

晶胞结构：

纯度要求 11个9

单晶硅的制备

第一步：多晶硅制备

第二步 提纯多晶硅

第三步 单晶硅制备

共三种方式：

CZ法设备图：

直拉法：




从图可以看出，单晶硅的含杂量随着硅棒生长越来越高；

从硅棒到硅片

1. 硅棒
   

2. 切片
   
   

3. 倒角

4. 磨片
   

5. 腐蚀
   

6. 最终抛光
   

7. 出货